結論
建議採用 A + 導風罩:晶片 50.3 ℃,比原始前進後出設計低 14 ℃,熱阻 1.69 ℃/W。
- 原始 A 設計有一半以上的風從鰭片上方繞過。導風罩把整股風擠進鰭片之間,通道風速由約 1 m/s 升到約 2.2 m/s。
- 代價是系統壓降由 0.77 Pa 升到 3.0 Pa,40 mm 風扇的最大靜壓一般在 20–40 Pa,負載仍很輕。
- 側進頂出(B)最差,晶片 83.4 ℃:側風撞上第一片鰭片後往上翻,內側通道幾乎沒有風。把鰭片轉 90° 對準進風方向後降到 63.1 ℃,與 A 相當。
| 配置 |
晶片溫度 |
熱阻 Rth |
散熱片最高 |
出風溫度 |
系統壓降 |
能量守恆 |
| A + 導風罩 前進後出,漏斗 + 頂蓋 + 側擋牆 |
|
1.69 ℃/W |
51.1 ℃ |
31.3 ℃ |
3.01 Pa |
15.0 W |
| B + 鰭片轉 90° 側進頂出,鰭片對準進風 |
|
2.54 ℃/W |
63.9 ℃ |
31.5 ℃ |
1.49 Pa |
15.5 W |
| A 前進後出 原始設計 |
|
2.61 ℃/W |
64.9 ℃ |
31.3 ℃ |
0.77 Pa |
15.0 W |
| B 側進頂出 原始設計 |
|
3.89 ℃/W |
84.1 ℃ |
31.3 ℃ |
1.52 Pa |
15.0 W |
長條刻度 0–87.6 ℃。熱阻 Rth = (晶片溫度 − 進風溫度) / 15 W。能量守恆以出風溫升 × 風量 × ρcp 回推,與設定的 15 W 相差 ≤ 3 %。
圖 1晶片溫度與系統壓降。兩項分開作圖,不共用座標軸。
圖 2左上 A 前面 40×40 風扇口、背面 60×30 出風口。右上 B 側面 40×40 風扇口、頂面 60×40 出風口。左下 A + 導風罩(橘色)漏斗把風從風扇口導到鰭片高度,頂蓋與側擋牆和鰭片留 1.5 mm 組裝間隙。右下 B + 鰭片轉 90° 鰭片通道開口正對側面進風口。
- 機殼內部
- 150 × 100 × 50 mm
- 散熱片
- 60 × 60 × 25 mm
- 鰭片
- 8 片 × 1.5 mm,間距 6.86 mm
- 基板
- 3 mm
- 晶片(熱源)
- 20 × 20 mm,15 W
- 鋁 6063
- k 200 W/m·K
- 風扇(固定風量)
- 2 L/s,紊流強度 5 %
- 機殼壁面
- 絕熱(保守)
3 · 圖面
溫度與流場
每張圖四格排列相同:左上 A、右上 B、左下 A + 導風罩、右下 B + 鰭片轉 90°。除圖 7 外,四格用同一色階,可直接比較。
圖 3散熱片溫度(30–90 ℃)。鋁把熱攤得很平均,每塊散熱片的溫差只有 4–6 ℃,所以決定晶片溫度的是整體對流能力,也就是有多少風真正流過鰭片。
圖 4鰭片半高 z = 12.5 mm 的空氣溫度(25–45 ℃)。B 的冷風停在第一片鰭片前,整塊散熱片泡在熱空氣裡。A + 導風罩的每條鰭片通道都有冷風穿過,鰭片邊界層很薄。
圖 5垂直切面風速(0–2.5 m/s)。A 的主流大部分走鰭片上方的空間。A + 導風罩的漏斗把風壓進鰭片高度,通道風速約 2.2 m/s。切面位於兩片鰭片中間,所以只看得到基板。
圖 6流線,以空氣溫度著色。A 的流線大多保持黑色(冷),代表沒有接觸鰭片就離開。B 的流線撞上散熱片側面後往上翻、在機殼內繞圈。
圖 7鋁內部熱傳導剖面。每格色階依該配置的溫度範圍自動調整,用來看熱從晶片往鰭片擴散的路徑:熱點在晶片正上方的基板,外側鰭片尖端最冷。
圖 8等溫檢核:散熱片表面固定 60 ℃ 時的熱通量(0–1500 W/m²)。左 A、右 B。A 的鰭片前緣散熱最強,往下游遞減。B 幾乎只有正對進風的那片外側鰭片在散熱。
流程
- FreeCAD PartDesign 建立散熱片、流體域與導風罩(全部草圖驅動、可改尺寸)。
- 匯出 STL,分為 inlet / outlet / wall 與 heatsink。
- snappyHexMesh 以
locationsInMesh 一次切出空氣與鋁兩個區域,約 29–35 萬 cells,散熱片表面 0.75 mm。
chtMultiRegionSimpleFoam 穩態求解,k-ω SST 紊流模型並計入浮力,800–1000 步;晶片溫度約 130 步後穩定。
- ParaView 6.1 pvbatch 出圖,並存成 state 檔供互動檢視。
驗證
- 能量守恆:四種配置由出風溫升回推的熱量為 15.0–15.5 W,對應設定的 15 W。
- 等溫交叉檢核:用 CfdOF 把 A 的散熱片表面固定在 60 ℃,得到 Rth = 2.24 ℃/W。CHT 算出的散熱片平均溫度對應 2.41 ℃/W,兩者一致。多出的 0.17 ℃/W 是晶片熱量在基板內擴散的熱阻。
- 求解流程驗證:同一套 CfdOF + OpenFOAM 流程先跑圓管層流 Re = 100,與 Hagen–Poiseuille 解析解比較,速度剖面誤差 0.9 %、壓降梯度誤差 0.05 %。
限制
- 風扇以固定風量 2 L/s 表示,沒有用風扇曲線。導風罩讓壓降變成 4 倍,實際風量會略為下降;正式設計時請以所選風扇的 P-Q 曲線確認工作點。
- 晶片到散熱片之間的導熱介面(導熱膏或導熱墊)沒有建模。晶片接面溫度要再加上介面熱阻,例如 0.2 ℃/W × 15 W ≈ 3 ℃。
- B 系列的穩態解在 ±0.5 ℃ 內擺盪,等溫版 B 沒有完全收斂,只能當約略參考。排名不受影響。
- 機殼壁面設成絕熱,也沒有計入輻射,所以結果偏保守。
- 網格:鰭片厚度方向只有 2 格。鋁的 Biot 數很小,厚度方向的溫差可以忽略,但若要取得準確的壁面熱通量,應再做一次網格加密比較。